15216781845
產品系統PRODUCTS SYSTEM
在發展中求生存，不斷完善，以良好信譽和科學的管理促進企業迅速發展
相關文章
ARTICLES詳細介紹
無機氧化鋁膜是一種常見的功能性涂層材料，它的耐高溫性、耐腐蝕性、絕緣性能以及硬度和耐磨性等特點，使其在光學、電子、化工以及保護和導熱等領域有著廣泛的應用。
耐高溫性能：具有良好的耐高溫性能，能夠在高溫環境下保持穩定性，并且不易發生氧化或熔化。
耐腐蝕性能：對許多化學物質和腐蝕介質具有較高的抗腐蝕性能，可以保護基材免受腐蝕的侵害。
優異的絕緣性能：具有良好的絕緣性能，能夠阻隔電流和導熱，適用于電子器件和絕緣材料的應用。
高硬度和耐磨性：具有較高的硬度和耐磨性，可以提高基材表面的抗刮擦和耐磨損性能。
透明性能：在某些情況下可以具備透明性，可以用于光學涂層和透明材料的應用。
2.應用領域
光學涂層：在光學設備和器件中具有重要的應用，可以用于反射鏡、濾光片、抗反射涂層等。
電子領域：可用作絕緣層、保護層或導電層的組成部分，用于電子元件、電路板和顯示器等。
耐腐蝕涂層：由于其優異的抗腐蝕性能，無機氧化鋁膜常用于化工裝備、管道、儲罐等表面的保護涂層。
導熱涂層：可用于導熱材料的涂層，提高散熱效果，廣泛應用于電子散熱器、LED照明等領域。
防粘涂層：可以應用于食品加工設備、模具涂層等，減少黏附物的沾附，提高清潔度和耐用性。
3.制備技術
物理氣相沉積（PVD）：采用物理氣相沉積方法，通過蒸鍍或濺射的方式在基材表面生成無機氧化鋁膜。
化學氣相沉積（CVD）：利用化學反應生成無機氧化鋁膜，常見的方法包括熱CVD和等離子體CVD等。
溶膠凝膠法：通過溶膠的形式將無機氧化鋁前驅體涂覆在基材上，經過凝膠化和熱處理形成氧化鋁膜。
參數信息：
技術參數 | |||
| Anodisc 13 | Anodisc 25 | Anodisc 47 |
平均膜厚度 | 60µm | 60µm | 60µm |
膜直徑 | 13mm | 21mm | 43mm |
膜類型 | Anodisc氧化鋁 | 氧化鋁 | 氧化鋁 |
支撐環材烊 | 無 | 聚丙烯 | 聚丙烯 |
構建方式 | 無 | 熱合 | 熱合 |
蛋白吸附 | 低 | 低 | 低 |
爆裂強度 | 65-110psi | 65-110psi | 65-110psi |
zui高工作溫度 | 400℃ | 40℃ | 40℃ |
孔率 | 25-50% | 25-50% | 25-50% |
高壓蒸汽滅菌 | 是 | 否 | 否 |
折射率 | 1.6 | 1.6 | 1.6 |
訂貨信息 | |||||||
尺寸（mm） | 膜 | 孔徑（µm） | 目錄號 | 親水 | 蛋白 吸附力 | 化學 相容性 | 數量/包 |
13 | Anodisc 13* | 0.02 | 6809-7003 | 是 | 低 | 很低 | 100 |
13 | Anodisc 13* | 0.1 | 6809-7013 | 是 | 低 | 很低 | 100 |
13 | Anodisc 13* | 0.2 | 6809-7023 | 是 | 低 | 很低 | 100 |
25 | Anodisc 25 | 0.02 | 6809-6002 | 是 | 低 | 很低 | 50 |
25 | Anodisc 25 | 0.1 | 6809-6012 | 是 | 低 | 很低 | 50 |
25 | Anodisc 25 | 0.2 | 6809-6022 | 是 | 低 | 很低 | 50 |
47 | Anodisc 47 | 0.02 | 6809-5002 | 是 | 低 | 很低 | 50 |
47 | Anodisc 47 | 0.1 | 6809-5012 | 是 | 低 | 很低 | 50 |
47 | Anodisc 47 | 0.2 | 6089-5022 | 是 | 低 | 很低 | 50 |
產品咨詢
15216781845
genshengtech@163.com
上海市奉賢區南橋鎮南橋路377號1幢
關注我們
關于我們
產品導航
版權信息
